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1.MB芯片定义与特点
1 U9 [3 ?; q8 h* G; `( Z9 w, Y4 m% E
定义﹕
3 @4 {8 ~, A7 b9 | MB 芯片﹕Metal Bonding (金属粘着)芯片﹔该芯片属于UEC 的专利产品0 g A+ F; `% h/ n5 S2 x F, n
* X2 o* n+ w3 J2 J( W0 x
特点﹕ f, d$ ?5 R! A1 H% U3 m% J
1、 采用高散热系数的材料---Si 作为衬底﹐散热容易. . q# h. U/ j4 |, d& r
, Y% s+ V) ?( _% y
Thermal Conductivity8 D$ ]4 {* z- Q7 R& t
GaAs: 46 W/m-K
( a9 ]8 v I2 ^- TGaP: 77 W/m-K
" {. ?4 z! |# J1 u1 _# ISi: 125 ~ 150 W/m-K+ ]) |) C, ]' {0 Q5 X
Cupper:300~400 W/m-k
& d1 C2 d3 H3 g$ D E* aSiC: 490 W/m-K6 g7 }% Y1 m# i6 v8 ~* r' Y/ Y
0 t0 A1 [6 m" f) ?! t2 F
2、通过金属层来接合(wafer bonding)磊晶层和衬底,同时反射光子,避免衬底的吸收.9 r% r" p1 ]- m, f) D
3、导电的Si 衬底取代GaAs 衬底,具备良好的热传导能力(导热系数相差3~4 倍),更适应于高驱动电流领域。. y7 Z' h8 c& v' F$ P
4、底部金属反射层﹐有利于光度的提升及散热" P. ^/ H/ M( g v
5、尺寸可加大﹐应用于High power 领域﹐eg : 42mil MB# d% U _ I+ d ?8 {% E
% I" c/ W! d" y$ u7 V b
2.GB芯片定义和特点& }( J; ~# H% P t( J/ B7 p6 p
- L& ?" l% G+ }; a1 @
定义﹕
. j+ i% P l( p7 ^! D GB 芯片﹕Glue Bonding (粘着结合)芯片﹔该芯片属于UEC 的专利产品7 W; J) C/ E( K! s K
特点﹕2 |, K$ p. {( V5 X2 Y _
1﹕透明的蓝宝石衬底取代吸光的GaAs衬底﹐其出光功率是传统AS (Absorbable structure)芯片的2倍以上﹐蓝宝石衬底类似TS芯片的GaP衬底.
, E b0 T/ B% T: T/ ]# s" }$ k 2﹕芯片四面发光﹐具有出色的Pattern图" h# `# [5 Z$ W5 \* s, s; W
3﹕亮度方面﹐其整体亮度已超过TS芯片的水平(8.6mil)
- l7 E4 u) e* a" ^/ _ 4﹕双电极结构﹐其耐高电流方面要稍差于TS单电极芯片6 G4 M$ k2 W, a
6 x/ p L7 U6 @& |# a; M7 J
3.TS芯片定义和特点 g, I# e* g- ?: Y+ p
+ p* d M. y9 R
定义﹕
7 V* l% ^( \5 N% A- J# V TS 芯片﹕ transparent structure(透明衬底)芯片﹐该芯片属于HP 的专利产品。
3 t- b3 y) g' Y' ~6 H9 l) H# Q+ p; k! V
特点﹕
7 X6 C2 i4 v* \3 l" M4 B' S 1.芯片工艺制作复杂﹐远高于AS LED$ E3 w5 u0 V, \( a" B" }/ W: J: {
2. 信赖性卓越7 d0 H0 G/ c. E
3.透明的GaP衬底﹐不吸收光﹐亮度高* s. v1 W2 I) Y {
4.应用广泛2 f. _8 A3 A, I0 I
6 U, @ r. F/ M: d: `) ~+ K4.AS芯片定义与特点# {( P4 t, ` A! w- k2 X) Z
: i) P( a4 h2 T& o6 a. \1 u定义﹕# [) B) V" Z0 P- b! {/ o! l* _
AS 芯片﹕Absorbable structure (吸收衬底)芯片﹔经过近四十年的发展努力﹐台湾LED光电业界对于该类型芯片的研发﹑生产﹑销售处于成熟的阶段﹐各大公司在此方面的研发水平基本处于同一水平﹐差距不大.$ w$ Y6 F/ ]( S2 t( U
大陆芯片制造业起步较晚﹐其亮度及可靠度与台湾业界还有一定的差距﹐在这里我们所谈的AS芯片﹐特指UEC的AS芯片﹐eg: 712SOL-VR, 709SOL-VR, 712SYM-VR,709SYM-VR 等# y! R1 \6 K0 C% Y5 d
7 K0 x# {8 d: x# o% k6 N# w
特点﹕
; G: I2 o6 {4 X5 b 1. 四元芯片﹐采用 MOVPE工艺制备﹐亮度相对于常规芯片要亮0 l b* P# y2 i7 {! F( y; P
2. 信赖性优良
' Q' K( q6 m! H" }1 j 3. 应用广泛8 o5 S( M' g! J* X2 b, M
# f' {- b+ |/ _8 ~8 Z. M; h
发光二极管芯片材料磊晶种类
9 O! p! b9 o3 ], _, \* Y1 P% z4 R I
1、LPE:Liquid Phase Epitaxy(液相磊晶法) GaP/GaP O7 Y5 u+ Y; D
7 _5 `% O! w/ }' i
2 、VPE:Vapor Phase Epitaxy(气相磊晶法) GaAsP/GaAs2 h. }* w& ^ {
$ t1 @* r& T# |$ I* ~9 S* G4 X3 、MOVPE:Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (有机金属气相磊晶法) AlGaInP、GaN a, _$ e. p- z! y/ Y6 u
6 X' a) q) V6 n7 g4 、SH:GaAlAs/GaAs Single Heterostructure(单异型结构)GaAlAs/GaAs
; e1 ~5 n8 D# C5 o+ u4 n+ S J6 T e
5 、DH:GaAlAs/GaAs Double Heterostructure, (双异型结构) GaAlAs/GaAs5 y3 u/ K9 o( M$ O
, Q+ |" z4 T2 k3 Z& h! r
6、 DDH:GaAlAs/GaAlAs Double Heterostructure, (双异型结构) GaAlAs/GaAlAs |
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